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打破美国技术封锁,芯片制造关键设备取得突破!美国得失望了

文章来源:   发布时间:2021-06-01 10:52   点击:

打破美国技术封锁,芯片制造关键设备取得突破!美国得失望了(图1)

  芯片对半导体行业的影响很大,而关于芯片的很多关键技术,都被发达国家所掌握,因此才会出现技术封锁、技术垄断等情况。去年美国对芯片贸易进行政策调整,就对我国的半导体行业造成了很大的影响。

  例如华为的芯片有一段时间供应不上,逼得华为不得不转型。而如今中国的科技公司,在耗时十一年后,终于打破了美国的技术封锁,研制出芯片制造的关键设备,那就是刻蚀机。

  众所周知,芯片的制造有三个设备十分重要,包括光刻机、刻蚀机以及薄膜沉积设备。但由于技术垄断,中国想在光刻机和薄膜沉积技术上有所突破十分困难。因此只能另辟蹊径,中国在刻蚀机技术上投入了很多。如今刻蚀机的技术被中国企业所掌控,而且十分先进,而掌握这项技术的企业叫中微半导体。

  据了解,中微半导体在2015年就研发制造出了5nm刻蚀机。这对中国的半导体行业影响巨大,因为这是中国第一台自主生产刻蚀机,意味着中国有生产芯片的设备了。但中微半导体的研究之路并不顺畅,早年间,美国便对中国的刻蚀机出口做了限制,还对中国进行技术封锁,研究环境十分艰难。但中微半导体在尹志尧的带领下,从2004年突破重重关卡,终于在2015研制出了5nm刻蚀机,打破垄断。

  中微半导体在世界上也很有影响力,几年前生产的5nm刻蚀机,是世界上第一台5nm刻蚀机。去年该公司在5nm刻蚀机领域上又有新的突破,而且通过了台积电验证。说明5nm刻蚀机的性能以及质量都比较好,可以运用到生产线中。如今中微半导体已经有了台积电下的订单。

  而中微还在继续研究,主要针对3nm刻蚀机,若是3nm刻蚀机被成功研制出来,那么未来的刻蚀机技术,就还在中国的掌握之中。

  虽然中国在半导体行业上,与其他国家有差距,但5nm刻蚀机的出现,给了中国半导体行业发展的新希望。它证明了中国的技术也不差,中国的企业也可以研制出先进的产品。

  相信大家和我一样作为中国人,始终相信中国在科研方面不比他国差。我们始终相信,中国早晚在半导体行业会有其他突破!不再受制于任何人!

来源: 武宁宁聊娱乐